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該工程為某國(guó)駐華大使館,位于北京市某區(qū)內(nèi),基底埋深為5m,局部電梯井6m。擬建場(chǎng)地位于北京某區(qū)、第三使館區(qū)內(nèi),地形平坦。根據(jù)鉆探結(jié)果,擬建場(chǎng)地在15m勘探深度內(nèi)的地質(zhì)構(gòu)成為:地表為人工填土,以下為第四紀(jì)沖擊層。
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