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該工程為某國駐華大使館,位于北京市某區(qū)內,基底埋深為5m,局部電梯井6m。擬建場地位于北京某區(qū)、第三使館區(qū)內,地形平坦。根據(jù)鉆探結果,擬建場地在15m勘探深度內的地質構成為:地表為人工填土,以下為第四紀沖擊層。
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