關于超純水工程前處理填充料計算。

本人新人，求助前處理砂，碳，軟化罐的填充量怎么計算， 我只能計算出立方。立方轉(zhuǎn)換到L和KG不會，有大神有方便的計算方法和心得么，感謝。 比如罐子尺寸為 直徑2000MM*高度1800MM 請大神計算裝填砂.碳，樹脂各用多少。

電子超純水系統(tǒng)工程案例

.設計條件及出水水質(zhì)1.1 進水主要水質(zhì)指標：成都市自來水 1.2 用戶對出水要求：出水量：超純水0.5噸/小時 出水壓力：2公斤； 出水水質(zhì)：主機系統(tǒng)超純水：電阻率≥18MΩ.㎝@25℃；出水溫度：常溫。1.3水質(zhì)檢測：隨機自帶有電導率儀，出水電導率在線顯示。1.4 設備最終產(chǎn)水量：純水0.5噸/小時@25℃；超純水0.5噸/小時@25℃；1.5系統(tǒng)總進水量：1.2m3/h；1.6一級反滲透的回收率≥50%；1.7二級反滲透的回收率≥45%；1.8第一級反滲透的濃水排放回收另作它用，我方可將濃水接至貴方要求的回收容器；第二級反滲透的濃水全部回流至一級反滲透前，流量約為0.18t/h；1.9 CEDI裝置回收率：85～95%,回流流量約0.03m3/h；另一部分濃水排放回收作它用。1.10 控制方式：單片機或PLC自動&手動控制。 1.11苦咸水RO膜元件產(chǎn)品性能規(guī)范產(chǎn) 品 產(chǎn)品水流量 脫鹽率 m3/d l/h

超純水設備的應用領域和制水工藝

純水設備將原水通過多重過濾后產(chǎn)出超純水，常用工藝包括四種，分別是預處理 單級RO EDI、分別是預處理 雙級RO EDI、預處理 單級RO EDI 拋光混床、預處理 雙級RO EDI 拋光混床，進一步提高水質(zhì)，使得產(chǎn)水符合法規(guī)和出產(chǎn)工藝用水要求。在超純水的制備過程中，原水水質(zhì)和工藝選擇決定產(chǎn)水水質(zhì)。最初，美國科技圈是為了研制超純資料，通過各種“凈化”手法或者超臨界精細技能而得到了超純水，如今隨著技能晉級和改善，超純水已經(jīng)在眾多職業(yè)得到廣泛應用。超純水的電阻率大于18MΩ*cm或接近于18.3MΩ*cm極限值，水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體、有機物等均被去除至很低含量，一般的工藝是很難達到這種程度。純水設備可全自動化操控，具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定、裝置便利、操作快捷、節(jié)能環(huán)保、勞動強度低、運轉(zhuǎn)費用低等多種長處，因此廣泛應用于與水處理相關的職業(yè)。應用領域包括：1、電子職業(yè)：集成電路、顯像管、線路板、電容器、電腦元件等。2、電力職業(yè)：核電、光電、火力發(fā)電等。3、半導體職業(yè)：半導體晶片切割制造、半導體芯片、半

水處理之超純水工藝流程！

預處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹脂

超純水設備管道如何清理

第一遍使用超純水沖洗管內(nèi)雜質(zhì)，第二遍、第三遍使用雙氧水清洗消毒，第四遍使用超純水將管內(nèi)雙氧水殘液沖洗干凈。 第一遍清洗前應在不銹鋼濾筒里的安裝使用過的微孔濾棒專供清洗使用，清洗完成后正式使用前方更換全新微孔濾棒;純水超純水成套設備中的樹脂罐嚴禁與清洗所用的雙氧水溶液接觸，清洗前樹脂罐旁應安裝管道旁通。 第二、三遍使用雙氧水溶液清洗時，每次應使用雙氧水溶液在管內(nèi)循環(huán)半小時，然后停止循環(huán)關閉供回主管閥門，讓溶液在管道中浸泡1小時。 第四遍清洗時，應使用沖洗的方式，沖洗時間不少于8小時，邊沖邊循環(huán)邊在管道最末端放水。 整個清洗過程中，末端用水點進設備處都應先行關閉，同時在最后一遍沖洗時，應將每臺設備用水點處進行排放，排放時間不少于0.5小時。 雙氧水由于能夠分解產(chǎn)生O2具有強氧化，能使有機色質(zhì)褪色，所以具有漂白性，所以在操作過程中皮膚不應長期接觸雙氧水溶液，最好應戴上橡膠手套操作。

成都超純水設備怎么清洗？

在成都超純水設備中，EDI系統(tǒng)是一個非常重要的核心部件。因此，對超純水設備EDI系統(tǒng)的維護和清洗也十分重要，那么，成都超純水設備怎么清洗？下面我公司技術人員為您解讀： 成都超純水設備的清洗方法 步驟1：關閉EDI系統(tǒng)，停止EDI系統(tǒng)，確保電源切斷。 步驟2：關閉以下閥門：原水進水閥、淡水閥、淡水沖洗排水閥、極限排水閥、濃水排放閥、濃縮水循環(huán)泵進出口閥。 步驟3：清洗水箱及相關清洗管。 步驟4：連接清洗管。淡水生產(chǎn)、濃縮水排放和極性排水管線直接連接到清洗槽。原水、濃縮水和清洗管道連接到EDI系統(tǒng)的原始進水口和濃縮水入口的界面。要注意清洗管路牢固，防止藥品的噴濺。

如何保持超純水的最佳水質(zhì)

    在取超純水過程中很容易受到環(huán)境污染，所有基本上都實行“即去即用”來進行取水。只有將超純水的環(huán)境以及實驗壓縮下來才能

超純水設備的質(zhì)量如何鑒別

關于清洗用超純水回收,請教。

碰到一個項目，18MO超純水用于沖洗（非晶硅薄膜電池生產(chǎn)）白玻璃、導電玻璃、太陽能芯片，污染物主要是激光刻劃后留下的玻璃渣顆粒、粉塵；硅片顆粒、粉塵，清洗劑（深圳捷藝思生產(chǎn)的HE10121洗潔劑(無泡沫)、堿性，可能含有KOH/NaClO,具體成分生產(chǎn)商不愿意說），20T/H,想把它會用到超純水制取的原水箱里面去，但是不知道這些水需要做什么樣的處理？謝謝大家！

純水與超純水的制備原理。

純水與超純水的制備原理。

關于小型超純水設計的難題

一個客戶要一臺40L每小時的超純水機，我用的工藝是反滲透加混床柱，原水電導2000，反滲透膜出水電導在80，后面混床柱直徑75長350MM，兩個混床柱串連，剛開始出水電阻率達到5兆，用了4個小時，混床失效。我如果用大點的混床，溫床樹脂裝的多了，流速又上不去。像這種設備用什么工藝合適呢

0.5T電子超純水系統(tǒng)工程方案

1.設計條件及出水水質(zhì)1.1 進水主要水質(zhì)指標：成都市自來水 1.2 用戶對出水要求：出水量：超純水0.5噸/小時 出水壓力：2公斤； 出水水質(zhì)：主機系統(tǒng)超純水：電阻率≥18MΩ.㎝@25℃；出水溫度：常溫。1.3水質(zhì)檢測：隨機自帶有電導率儀，出水電導率在線顯示。1.4 設備最終產(chǎn)水量：純水0.5噸/小時@25℃；超純水0.5噸/小時@25℃；1.5系統(tǒng)總進水量：1.2m3/h；1.6一級反滲透的回收率≥50%；1.7二級反滲透的回收率≥45%；1.8第一級反滲透的濃水排放回收另作它用，我方可將濃水接至貴方要求的回收容器；第二級反滲透的濃水全部回流至一級反滲透前，流量約為0.18t/h；1.9 CEDI裝置回收率：85～95%,回流流量約0.03m3/h；另一部分濃水排放回收作它用。1.10 控制方式：單片機或PLC自動&手動控制

電子超純水系統(tǒng)工程設計方案

電子超純水系統(tǒng)工程設計方案資料簡介(電子超純水系統(tǒng)工程設計方案) 電子超純水系統(tǒng)工程設計方案設計條件及出水水質(zhì)1.1 進水主要水質(zhì)指標：成都市自來水 1.2 用戶對出水要求：出水量：超純水0.5噸/小時 出水壓力：2公斤； 出水水質(zhì)：主機系統(tǒng)超純水：電阻率≥18MΩ.㎝@25℃；出水溫度：常溫。1.3水質(zhì)檢測：隨機自帶有電導率儀，出水電導率在線顯示。1.4 設備最終產(chǎn)水量：純水0.5噸/小時@25℃；超純水0.5噸/小時@25℃；1.5系統(tǒng)總進水量：1.2m3/h；1.6一級反滲透的回收率≥50%；1.7二級反滲透的回收率≥45%；1.8第一級反滲透的濃水排放回收另作它用，我方可將濃水接至貴方要求的回收容器；第二級反滲透的濃水全部回流至一級反滲透前，流量約為0.18t/h；1.9 CEDI裝置回收率：85～95%,回流流量約0.03m3/h；另一部分濃水排放回收作它用。1.10 控制方式：單片機或PLC自動&手

電子晶圓超純水設備漏水了怎么辦

電子晶圓超純水設備使用過程中，有時會發(fā)現(xiàn)超純水設備出現(xiàn)了漏水的狀況，很多人都不是特別的注意，認為是小問題，但是小問題慢慢的發(fā)展就會變成大的問題，漏水也要引起我們的注意，下面來介紹一下電子晶圓超純水設備漏水了怎么辦? 1、開通電源，注入水，看看究竟是哪里漏水。 2、檢查管路是否存在漏水點。針對這個故障檢查該設備的水路，查找漏水點。若不易查找，可用干燥的面巾紙檢測。 3、看看設備內(nèi)部零部件是不是上銹或者螺絲松動而造成的漏水現(xiàn)象。 以上就是對于電子晶圓超純水設備漏水的原因介紹，希望對大家有所幫助，出現(xiàn)了問題就可以按照上述的方法來處理一下，及時的解決問題，不要影響設備以后的使用。

超純水設備故障該怎么排查呢？

超純水設備采用了新的、先進的EDI技術和反滲透技術，產(chǎn)水水質(zhì)符合GMP認證規(guī)定標準，而且還滿足了各種工業(yè)用水的不同需求，在工業(yè)生產(chǎn)行業(yè)中得到了重大貢獻，但是如果發(fā)生了故障，該怎么樣來進行排查呢？帶路環(huán)保帶大家來了解一下。 首先看看是不是TTDS值太高 1. 首先檢測原水TDS值，R/O膜脫鹽率為96％左右。2. 確認儲水桶內(nèi)純凈水存放時間是否過長；3. 如新更換了后置活性碳同樣需要進行沖洗；4. 測量純水水質(zhì)時，請從反滲透膜純水口測量；5. RO膜殼的純水口有裂縫，純水與廢水混合；6. 高壓泵壓力不足；7. 原水TDS值過高hndlhb.com 第二看看是不是泵浦頭漏水 1. 檢查顆?；钚蕴炕騊P熔噴濾芯是否阻塞，致泵頭水無法送出，壓力升高而漏水，如果是的話，請更換顆?；钚蕴繛V芯并送修泵。2. 泵頭之膠粘老化或內(nèi)部水垢阻塞亦會造成漏水，請送修泵，日后需勤檢查PP熔噴濾芯以免造成阻塞 三、檢查純水機噪音大不大 1. 檢查是否原水管路斷水，造成增壓泵空轉(zhuǎn)，致使純水

芯片超純水設備管道如何清洗呢

芯片超純水設備具有遇故障自動停止、產(chǎn)水效率高、占地面積小和運行成本低等優(yōu)點，被廣大用戶所追捧。由于芯片超純水設備的使用時間較長，或者進水水質(zhì)不合格，可能會導致管道的內(nèi)側(cè)附有污染物，這些污染物就會影響產(chǎn)出的水質(zhì)，所以芯片超純水設備的管道要及時清洗，那么芯片超純水設備管道如何清洗呢? 第一遍： 清洗前應先清洗微孔濾棒，清洗完成后正式使用前方更換全新微孔濾棒;芯片超純水設備中的樹脂罐嚴禁與清洗所用的雙氧水溶液接觸，清洗前樹脂罐旁應安裝管道旁通。 第二、三遍： 使用雙氧水溶液清洗時，每次應使用雙氧水溶液在管內(nèi)循環(huán)半小時，然后停止循環(huán)關閉供回主管閥門，讓溶液在管道中浸泡1小時。 第四遍： 清洗時，應使用沖洗的方式，沖洗時間不少于8小時，邊沖邊循環(huán)邊在管道末端放水。 最后提醒大家，在整個芯片超純水設備管道清洗過程中，末端用水點應先行關閉，同時在后一遍沖洗時，應將每臺設備用水點進行排放，排放時間不少于0.5小時。

關于超純水設備的廣泛應用

超純水設備所使用的EDI技術在學術上又被叫做連續(xù)電除鹽技術，此種技術從專業(yè)角度講是一種不消耗酸堿，就能制備超純水的技術，主要應用工業(yè)有微電子工業(yè)、半導體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)、制藥行業(yè)以及實驗室等應用日趨廣泛。下面萊特萊德小編為您介紹L超純水設備應用領域介紹： 超純水設備用離子交換樹脂和離子交換膜結(jié)合制作成EDI單元，EDI模塊中把規(guī)定數(shù)量的、不同的EDI單元彼此之間用隔開物隔開，形成二次污染水儲存室。進入設備的原水在直流電的動力下，利用設備進水水流中的陰陽離子分別穿過相對應的離子交換膜。 流入濃水室的水攜帶離子，我們稱之為濃水，濃水會被排放出系統(tǒng)，電子工業(yè)用超純水設備通常通常使用反滲透處理系統(tǒng)作為EDI模塊進水的預處理。但是依照超純水應用行業(yè)的不同以及系統(tǒng)配置的不同，電子工業(yè)用超純水設備能夠制備電阻率控制在1-18.2MΩ.cm(25℃)之間的純水和超純水。 超純水設備應用領域 1、化工材料的生產(chǎn)和加工過程所用的溶劑及清洗過程 2、超純材料和超純化學試劑 3、實驗

化工超純水設備使用規(guī)范

首先，開啟進水水源并接通電源后化工超純水設備即可全自動制水工作。 第二，如需取用RO反滲透水、DI去離子水，開啟相應的左右兩側(cè)的取水球閥即可。 第三，取水完畢后關閉取水口，設備即自動停機，此時開啟任何一個取水口，則自動重新啟動，制造純水。以此循環(huán)，制造出所需的純水。如長時間不使用，請同時關閉水源及電源。 注意：如長期不使用或下班前，請務必關閉純水機電源，切斷自來水進水水源，以避免意外發(fā)生。 化工超純水設備應用領域非常的廣泛，不僅可以應用到工業(yè)制純水中，也大量應用到超純水系統(tǒng)進水、微生物培養(yǎng)基用水、化學與生化試劑配置、緩沖液配置、感光膠片沖洗、為穩(wěn)定性實驗箱、氣象實驗，以及設備、氫氣發(fā)生器、加濕器等儀器供水中。它可完全取代傳統(tǒng)單蒸、雙蒸、三次蒸餾水機。